德國Hellma光學材料-氟化鈣晶體CaF2

Hellma Materials和CVD陶瓷是高品質(zhì)晶體和陶瓷光學材料的領(lǐng)*制造商，包括微光刻、光學、激光技術(shù)和輻射檢測。

類型：

氟化鈣晶體

氟化鋇晶體

激光晶體

閃爍晶體

CVD Zinc Sulfide® and Cleartran®

CVD Zinc Selenide®

氟化鈣晶體具有以下特點：

具有良好的透明性：氟化鈣晶體在紫外至紅外波段均有較好的透明性，是一種優(yōu)秀的光學材料。

具有高的折射率：氟化鈣晶體的折射率較高，約為1.4，適用于制作光學透鏡等光學元件。

具有較高的熱穩(wěn)定性：氟化鈣晶體的熱膨脹系數(shù)較小，熱穩(wěn)定性較高，適合在高溫環(huán)境下使用。

具有較高的化學穩(wěn)定性：氟化鈣晶體化學性質(zhì)穩(wěn)定，不易被酸、堿等化學物質(zhì)侵蝕。

具有較高的機械強度：氟化鈣晶體硬度較高，具有較好的機械強度，不易破裂或變形。

沈陽漢達森YYDS曹 

技術(shù)優(yōu)勢：

Hellma Materials 的 Lithotec® CaF2 具有獨*的光學特性：

從深紫外到紅外（130nm至8μm）的高寬帶透射率

低折射率 （nd = 1.43384）

低光譜色散 （vd = 95.23）

準分子激光光學器件（157nm、193nm、248nm）具有出色的激光耐久性

對高能顆粒和輻射的合格抵抗力

直徑可達420mm

應用領(lǐng)域：

紅外光學元件

用于天文儀器的光學元件

天基光學器件

顯微鏡光學元件

光譜光學

紫外光學

激光窗口

準分子激光光學

微光刻光學

德國Hellma光學材料-氟化鈣晶體CaF2